睿能·非衡_系列
正負(fù)不對(duì)稱雙極性脈沖電源
PPS±feih
1. 產(chǎn)品概述
正負(fù)不對(duì)稱雙極性脈沖電源PPS±feih蘇州永創(chuàng)智能科技有限公司開發(fā)生產(chǎn)。睿能·非衡系列電源專為高級(jí)鍍膜工藝而設(shè)計(jì)的高精度、高性能電源解決方案。
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正負(fù)不對(duì)稱雙極性脈沖電源PPS±feih它創(chuàng)新性地采用了雙極性不對(duì)稱輸出設(shè)計(jì)，可獨(dú)立產(chǎn)生+1200V/選配2000V的正脈沖與-900V/選配1500V的負(fù)脈沖，并能在10kHz至50kHz的高頻范圍內(nèi)進(jìn)行精確的脈沖調(diào)制。通過獨(dú)立控制正負(fù)脈沖的寬度與頻率，該電源能實(shí)現(xiàn)對(duì)等離子體環(huán)境的精準(zhǔn)塑造，顯著提升薄膜的附著力、致密性與綜合性能，是追求卓越鍍膜質(zhì)量的用戶的理想選擇。
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正負(fù)不對(duì)稱雙極性脈沖電源PPS±feih蘇州永創(chuàng)智能科技有限公司開發(fā)生產(chǎn)。
2. 產(chǎn)品特點(diǎn)
①核心雙極不對(duì)稱輸出
正極性輸出高達(dá) +1200V，負(fù)極性輸出達(dá) -900V，這種獨(dú)特的電壓不對(duì)稱性，能為工藝過程提供更優(yōu)化的能量輸入。
正脈沖占空比（80%~100%）與負(fù)脈沖占空比（20%~0%）協(xié)同可調(diào)，實(shí)現(xiàn)對(duì)離子轟擊與沉積過程的獨(dú)立精細(xì)控制，從而優(yōu)化薄膜生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)。
②高頻精密脈沖調(diào)制
工作頻率在 10kHz ~ 50kHz 范圍內(nèi)可數(shù)字設(shè)置，滿足不同工藝階段對(duì)脈沖頻率的多樣化需求。
輸出電流 0~1A 可調(diào)，確保在復(fù)雜工藝條件下仍能提供穩(wěn)定、純凈的脈沖波形。
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③卓越的可靠性與穩(wěn)定性
內(nèi)置先進(jìn)的軟啟動(dòng)電路，有效抑制開機(jī)瞬間的電壓電流沖擊，保護(hù)電源本身及后端昂貴的鍍膜設(shè)備。
輸出電壓過沖被嚴(yán)格控制在極低水平，確保工藝重復(fù)性和膜層質(zhì)量的一致性，保護(hù)基片與靶材。
④智能化與可視化操作
所有關(guān)鍵參數(shù)（電壓、頻率、占空比）均可通過前面板數(shù)字設(shè)置，并實(shí)時(shí)顯示工作狀態(tài)，操作直觀簡(jiǎn)便。
3. 典型應(yīng)用
①高級(jí)真空鍍膜
PVD（物理氣相沉積）： 如磁控濺射、電弧離子鍍等工藝中，作為基體偏壓電源，用于精確控制離子對(duì)基片的轟擊能量與方向。
制備高性能薄膜：如類金剛石薄膜（DLC）、氮化鈦薄膜（TiN）、氧化鋁薄膜等硬質(zhì)、耐磨、防腐涂層
②表面工程與改性
等離子體浸沒離子注入與沉積。
材料表面清洗與活化處理。
③前沿科研領(lǐng)域
等離子體物理、新材料合成等需要對(duì)等離子體參數(shù)進(jìn)行精密調(diào)控的科學(xué)研究。
4. 參數(shù)規(guī)格
序 項(xiàng)目........................要求
1. 輸出電壓....................正極性+1200V
? ?輸出電壓....................負(fù)極性-900V
2. 輸出電流.....................0~1A
3. 頻率........................10kHz~50kHz可設(shè)置
4. 占空比......................PWM1(正脈沖)占空比80~100%
5. 占空比......................PWM2(負(fù)脈沖)占空比20~0%
6. 注意事項(xiàng)1...................電源的電壓電流數(shù)據(jù)采用485傳輸
7. 注意事項(xiàng)2...................PWM1和PWM2是互補(bǔ)的關(guān)系，
8. 注意事項(xiàng)3...................PWM1和PWM2的占空比設(shè)置要加入死區(qū)(固定值或百分比，當(dāng)頻率高的時(shí)候固定值合適點(diǎn))
正負(fù)不對(duì)稱雙極性脈沖電源PPS±feih蘇州永創(chuàng)智能科技有限公司開發(fā)生產(chǎn)。波形如下
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